如果看官你不是電子***域純水行業的人士，你可能會奇怪：水，怎么會卡芯片制造的脖子？就算我國缺水，還能缺到不夠芯片制造用水的地步嗎？當然不是水量不夠，而是水質達不到要求，也就是水不夠純凈。

對于大眾來說，平時接觸的自來水（飲用水）的渾濁度小于1NTU（根據現行《生活飲用水衛生標準》GB 5749-2006）。這樣的自來水在肉眼看來，就已經非常干凈了。但是，這在電子行業，尤其是高端芯片制造***域，還差得遠得遠得遠得遠……

在芯片人看來，自來水里面雜質多到什么程度？就好比是一鍋粥！

于是，芯片行業需要對生產用水進行苛刻的純化處理。

水純化***層次——去離子水（DIW，Deionized Water）：采用物理、化學方法，去除溶于水中的電解質，獲得電阻率在0.1~10 MΩ·cm的水（真正純凈的水可被視為絕緣體，生活中的水導電，是因為其中有雜質）。這個過程去除了水中的電解質，但溶于水中的非電解質（如有機物、微生物、顆粒物、溶解性氣體等）大部分未被去除。

水純化第二層次——純水（PW，Pure Water）: 采用物理、化學方法，去除了水中的幾乎全部電解質與非電解質，且水中陽離子和陰離子、有機物、顆粒物、微生物等含量受到一定控制。此時，純水的電阻率在10~18.2 MΩ·cm（25℃），可以被視其為絕緣體了。

水純化第三層次——超純水（UPW，Ultra Pure Water）：如果將水中陽離子、陰離子、有機物、顆粒物、微生物都進行嚴格控制，這還不算完，再對水中溶解氣體進行嚴格控制，此時水的電阻率達到18.2 MΩ·cm（25℃）以上（接近理論值18.6 MΩ·cm，25℃時）。

不幸的是，現在的高端芯片制造，正需要這個******的超純水。估計有人會納悶，芯片生產干嘛要對水質提出這么苛刻的條件呢？

• TOC（可通俗理解為所有能燃燒的雜質）：影響光刻精度，影響芯片質量。

• DO（溶解在水中的氧氣）：滋生細菌，形成氧化層，影響芯片質量。

• Boron（硼元素）：影響P-N結，影響芯片質量。

• Silica（硅元素）：造成晶圓水斑，影響芯片質量。

• 金屬離子：影響晶圓原子密度，影響芯片質量。

• 微粒：影響光刻精度，導電微粒會直接導致短路。

• ......

總之，水不夠純凈，就做不成合格的高端芯片。芯片越高端，所需純水的純度就越高。